C12000

标准

JIS DIN EN ASTM/UNS/CDA GB/T
C1201 SW-Cu / 2.0076 Cu-DLP / CW023A C12000 /

优点

C12000是一种磷脱氧铜,残留磷量有限,中等。它具有良好的导电性和优异的焊接和钎焊性能。它可以很好地形成,无论是热的还是冷的。

 

应用

仪器行业、功率半导体引线框架、电缆带等。

Cu min.99.90
P 0.003-0.012

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状态 抗拉强度(Mpa) 屈服强度(Mpa) 延伸率(%) 硬度(Hv)
R220 220-275 max. 140 min. 30 40-65
R240 240-315 min. 180 min. 8 65-95
R290 290-360 min. 250 min. 3 90-110
R360 min. 360 min. 320 min. 2 min. 110

以上材料物理性能为常规性能指标,如有特殊要求(如性能、公差等),请直接联系上海锦町公司,我们会给您专业的评估和解答。

密度 (g/cm³) 8.94
导电率 IACS%(20℃)* 90
弹性模量 (KN/mm²) 130
热膨胀系数 10-6/K 20/℃ ~100/℃ 17.3
热传导率 W/(m*K) 350

*最低强化状态下的数值

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JIS: C1201
DIN: SW-Cu / 2.0076
EN: Cu-DLP / CW023A
UNS: C12000
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