C19010

标准

JIS DIN EN ASTM/UNS/CDA GB/T
C1901 CuNiSiP / C19010 /

优点

C19010是一种沉淀硬化铜合金,结合了高导电性和高导热性、高强度和良好的抗应力松弛性。由于NiSi沉淀,即使在高达150°C的温度下,弛豫性能也非常出色。焊接、钎焊和铜焊性能也很好。

 

应用

鱼眼端子、开关和继电器、触点、连接器、半导体元件、接线盒。

Cu 余量
Si 0.15-0.35
Ni 0.8-1.8

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状态 抗拉强度(Mpa) 屈服强度(Mpa) 延伸率(%) 硬度(Hv) 折弯90°GW 折弯90°BW
R360 360-430 min. 300 min. 12 100-130 0 0
R410 410-470 min. 360 min. 9 125-155 0 0
R460 460-520 min. 410 min. 7 135-165 0.5 1
R520 520-590 min. 460 min. 5 145-175 1 2
R580 580-655 min. 520 min. 9 160-210 1 1

以上材料物理性能为常规性能指标,如有特殊要求(如性能、公差等),请直接联系上海锦町公司,我们会给您专业的评估和解答。

密度 (g/cm³) 8.81
导电率 IACS%(20℃)* 50
弹性模量 (KN/mm²) 127
热膨胀系数 10-6/K 20/℃ ~100/℃ 16.8
热传导率 W/(m*K) 250

*最低强化状态下的数值

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JIS: C1901
DIN: CuNiSiP
UNS: C19010
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